ウルトラファインバブルによるシリコンウエハー（半導体）洗浄結果
超純粋ジェット洗浄後
 1000倍 |
 3000倍 |
超純粋ジェット洗浄後＋ウルトラファインバブル洗浄後
 1000倍 |
 3000倍 |
洗浄効果
| 洗浄前 | 超純水洗浄後 | 超純水ジェット＋ウルトラファインバブル洗浄後 | ||
| 1000倍画像 | 3000倍画像 | |||
| 面積 | 359～472um2 | 320～482um2 | 28.65um2 | 37.33um2 |
| ウルトラファインバブルによる洗浄率 ： 面積割合で 92.13％ | ||||
ウルトラファインバブルの内部が高圧になる特性を利用して、圧力波により固体表面の微粒子を除去する効果を実験的に検証
1ミクロン以上の微粒子が除去され観察されなくなったこと、また、洗浄できている面積割合が、９２％に到達することを明らかにした。